Lermaske: Anti-Stress

Giv din hud et øjeblik af ro og fornyelse

kr. 79,00

En effektiv og skånsom ansigtsmaske, der kombinerer dybderens med fugt og pleje – perfekt til at genoprette hudens balance og give dig en sund, strålende glød.

Kaolin-ler – renser i dybden og absorberer overskydende fedt.
Glycerin – fugter huden og bevarer dens naturlige blødhed.

E-vitamin – blødgør og beskytter mod frie radikaler.

Avocadoolie & passionsfrugt – rige på antioxidanter, der beskytter og beroliger huden.
Panthenol (B5-vitamin) – virker helende og lindrer irriteret hud.
Niacinamid (B3-vitamin) – udjævner hudtonen, reducerer pigmentpletter, dulmer rødme og styrker hudens smidighed ved at øge fedtsyreniveauet.

Anvendelse

Rens huden grundigt. Påfør en passende mængde maske jævnt i ansigtet.
Lad masken virke i 10-15 minutter inden den skyldes af med lunkent vand. Påfør din serum og creme og nyd din friske, sunde hud.

Masken kan bruges 1-2 gange om ugen

Ingredienser

Aktive ingredienser:

Kaolin (ler), Glycerin, Avocadoolie, Passionsfrugt, E-vitamin, Alger, Solsikkeolie, Panthenol (B5-vitamin), Propylene Glycol, Niacinamid.

 

Ingredients:

Aqua, ​Kaolin, ​Illite, ​Glycerin, ​Polysorbate 20,​ Caprylic/​Capric Triglyceride, ​Caprylyl Glycol, ​Persea Gratissima Oil, ​Cetearyl Alcohol,​ Citrus Aurantium Dulcis Peel Oil, ​Passiflora Edulis Seed Oil, ​Passiflora Incarnata Seed Oil,​ Steareth-21, Tocopherol,​ Glyceryl Caprylate, ​Acrylates/​C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer,​ Chondrus Crispus Extract, ​Helianthus Annuus Seed Cera,​ Phenylpropanol,​ Panthenol,​ Propylene Glycol,​ Calcium Pantothenate,​ Niacinamide,​ Sodium Hydroxide,​ Benzoic Acid,​ Potassium Sorbate,​ Sodium Benzoate & ​Limonene.

Anmeldelser

Der er endnu ikke nogle anmeldelser.

Vær den første til at anmelde “Lermaske: Anti-Stress”

Din e-mailadresse vil ikke blive publiceret. Krævede felter er markeret med *

Yderligere information

Vægt 1 g
Størrelse 20 × 12 × 35 cm
Brand

DMSK – Danish Made Skincare

Indhold

Du kunne også være interesseret i…

You don't have permission to register